产品介绍：
IC空白掩膜版和FPD空白掩膜版是曝光成像的母板，通过光掩模光学或是电子束曝光系统成为零缺陷的基板，以做为电子工业的线条制作基础制板。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。目前我们的掩膜版规则，显示类掩膜版5280，芯片类掩模版6025，我们也可按照客户需求定制生产。
产品介绍：
我们有多项核心专利；在ALD反应机理、材料性质和设备设计等方面为客户提供最先进的解决方案；采用高品质组件和先进的生产工艺，以确保产品稳定性和长期使用可靠性。
产品介绍：
使用高能量离子束辅助技术，可提高镀膜的致密性和附着力，从而实现高品质的镀膜效果。采用多重离子源技术，同时镀多种材料，并且具有快速反应速度和稳定性，从而提高了生产效率。该设备使用无污染的真空镀膜技术，减少了对环境的影响，符合环保要求。可根据不同的需求，进行多种材料的镀膜，如金属、氧化物、氮化物等，具有广泛的应用领域。
产品介绍：
采用先进的偏光双折射技术，实现高精度的应力测量，精度可达到0.1-1 纳米级别。只需1-2s完成测试，提高了生产效率。应用于各种材料的应力测试，如玻璃、晶体、塑料等。同时，还提供了多种测试模式，如单点测量、全场测量等，可满足不同使用需求。配备智能化软件系统，操作简单易懂。该设备可用于航空、汽车、机械制造、电子等领域的应力测试，具有广泛的应用前景。
除了以上的产品设备我们还有半导体材料表面缺陷检测仪和智能抛光设备。半导体材料表面缺陷检测仪应用transformer自注意力机制，适应从亚微米到毫米级不同尺寸瑕疵检测。智能抛光设备可用于不同种类材料的表面处理，如金属、 塑料、复合材料等，并且可以处理不同形状和尺寸的零部件。
莅临展台面对面高效交流
参展咨询：
参考资料：
CIOE
举办地区：广东
开闭馆时间：09:00-17:00
举办地址：深圳市宝安区福海街道和平社区展城路1号
展览面积：240000㎡
观众数量：121458
举办周期：1年1届
主办单位：中国科学技术协会
