国星光电Micro LED超高清显示研发项目取得重大突破,成功点亮1.84英寸Micro LED全彩显示屏——nStar Ⅲ。这款显示屏采用LTPS-TFT玻璃基驱动背板,像素间距缩小至0.078mm,分辨率达到360*480。全倒装无衬底LED像素发光单元的应用,使得屏幕在强光照射下仍能保持高清显示,峰值亮度超过1500nits。这一技术成果有望在未来广泛应用于Micro LED手表等智能穿戴设备。
国星光电介绍,在“十四五”规划的引领下,广东省积极推动超高清视频显示产业的发展,将其纳入十大战略性支柱产业。在此背景下,国星光电前瞻性地布局Micro LED显示技术,成功获批国家重点研发计划和广东省重点领域研发计划等科研项目。依托自主搭建的Micro LED创新研发平台,国星光电加速推进Micro LED新型显示技术的研发。
国星光电nStar Ⅲ技术优势
- 高精度转移:利用自主研发的巨量转移技术,实现超过50万颗Micro LED芯片的高密度集成,R/G/B三色芯片落位精度小于2um,转移良率超过99.9%。
- 高集成封装:采用自主研发的Micro LED玻璃基封装专利技术,显著降低外形厚度,提高平整度,兼顾散热与显示一致性。
至此,国星光电已成功构建多样化场景应用的“未来国星屏”矩阵,包括从P0.X至P0.0X像素间距的多种规格。未来,公司将持续深耕Micro LED微显示领域,开发硅基AR显示技术,拓展Micro LED应用领域,并建立多元化的产品、技术和解决方案平台,与客户携手推进新技术的商业化应用,共创美好未来视界。
参考资料:
DIC EXPO
举办地区:上海
开闭馆时间:09:00-18:00
举办地址:上海市浦东新区龙阳路2345号
展览面积:50000㎡
观众数量:50000
举办周期:1年1届
主办单位:中国光学光电子行业协会液晶分会