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展品推荐 | 专注研发生产精密光电薄膜元器件、精密光学冷加工、微纳光学产品,五方光电亮相CIOE 2023
产品介绍:
在镀有金属铬膜的超薄玻璃晶圆上,采用光刻工艺将mask的微纳结构图形转移至晶圆形成以铬膜为基础的微纳结构图形,再通过蒸镀工艺满足产品光学性能。目前可作业至微米级。产品主要类型有通光光阑、阴阳板、光刻玻璃晶圆、黑铬板等,产品主要应用在手机识别模组、手机环境光模组、车载激光雷达等领域。具体产品的镀膜要求、光谱效果及微纳结构尺寸可根据客户需求进行定制。
产品介绍:
作为公司的核心技术能力之一,目前公司有各类蒸发、溅射等镀膜设备100多台,可满足各类消费电子光学产品、半导体微纳光学产品镀膜需要,同时也可按照客户需求定制化生产。经过多年发展,公司作为国内主要的红外截止滤光片、窄带滤光片等产品生产商,具有较高的市场占有率和品牌知名度,同时也在积极构建新兴光学镀膜能力包括ALD镀膜及半导体光学镀膜,推动五方镀膜能力的完善和产业链拓展。
产品介绍:
光刻技术是五方新技术能力建设的核心,拥有行业先进的全自动匀胶及光刻,单片及槽式显影、刻蚀、去胶等湿法设备,可满足玻璃、硅基、蓝宝石、陶瓷等不同基材图案化光刻的样品及批量交付能力,晶圆尺寸覆盖6”圆、6”方、8”圆等。配套五方原有成熟的镀膜,激光/刀轮切割,排片及AOI能力,可实现客户晶圆及单颗芯片级不同分光要求,不同形态的产品需求。
产品介绍:
目前五方已具备TGV产品批量交付能力,已导入全自动超短脉冲飞秒激光设备,搭配全自动高精度腐蚀清洗线使用,可加工晶圆尺寸覆盖4”、6”、8”等,具备石英、硼硅、铝硅、钠钙等不同玻璃基材的加工能力。同时在玻璃晶圆成孔圆度、正反面同心度、通孔锥度、通孔间距、最大深宽比、通孔尺寸公差、通孔内微裂纹、微孔一致性等方面具有显著优势。
产品介绍:
在光学冷加工技术方面,目前已经建成蓝玻璃冷加工生产线、微棱镜生产线、新产品专用研发试制线等。掌握了玻璃、石英、水晶、陶瓷等材料的超薄超光滑表面加工技术,具备从砖料到多线切片、自动精雕倒边、自动减薄、超精密抛光清洗检验等完整的生产能力。
产品介绍:
我司现有的旋涂加工能力,可满足在不同的基底材料匹配不同的色素配方来满足客户不同的光谱需求,例如降低BG材料Shift偏移,改善拍照鬼影、暗影等问题和白玻基底增加旋涂取代BG材料等。目前我司已经导入全自动多片旋涂设备,可同步实现多片同步旋涂能力,确保多片旋涂厚度均匀性和光谱均匀性控制在我司的目标需求范围内。具体旋涂指标可根据客户要求进行定制化生产。
产品介绍:
狭缝涂布作为我司的精密涂布技术,其原理是涂布液在一定压力和一定流量下沿着涂布模具的缝隙挤压喷出而转移到基材上,可实现不同基底材料搭配不同粘度的浆料涂布。目前我司已导入自动化狭缝涂布设备,涂布层厚度可控制在微米级,同时具有涂布速度快、精度高、涂布层均匀性一致等特点。具体涂布及光学指标可根据客户要求进行定制化生产。
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参考资料:
CIOE
举办地区:广东
开闭馆时间:09:00-17:00
举办地址:深圳市宝安区福海街道和平社区展城路1号
展览面积:240000㎡
观众数量:121458
举办周期:1年1届
主办单位:中国科学技术协会
光电行业资讯
2025-10-14 23:33:4285