纳斯凯邀您共赴第11届半导体设备材料与核心部件展示会

无锡纳斯凯半导体科技有限公司

展位号 A6-T332

无锡纳斯凯半导体科技有限公司（以下简称“纳斯凯”）成立于2021年11月，坐落于风景秀美的太湖之滨——无锡市新吴区景渎工业园，毗邻太湖、紧靠环太湖高速公路、沪宁高速，是一家专业从事半导体关键性零件研发、制造和销售的高新技术企业。

公司生产面积3400多平米，现有生产人员近百名，集聚了大批优秀半导体人才，其中本科以上专业人员占比超70%，核心专业人才在备件技术、设备技术行业经验沉淀超20年。

纳斯凯拥有全球领先的半导体精密加工制造设备，引进国外先进技术，主要研发和量产8英寸/12英寸晶圆制造所需高纯硅、石英、陶瓷工艺备件，同时公司也提供电镜项目检测业务、设备上游化学原材料、设备结构及备件设计研发等其他配套研发服务，目前国内市场领域关于电镜分析业务暂为空白，具有极大的发展空间，现阶段也是我司一大重要项目。

纳斯凯以先进的管理、优质的产品和完善的售后服务体系，为用户提供从产品设计到方案解决等一系列的技术及产品服务，得到了广大客户和市场的信赖，与华虹、长江存储、中芯国际等国内外厂商建立了良好稳固的合作关系。

纳斯凯始终以客户需求为导向，注重技术研发与自主创新，加强科技人才的引进与培养，积累了丰富的科研成果，取得了多项自主知识产权。

中国的半导体产业已迈入一个崭新的时代，纳斯凯将立足国内，着眼未来，坚持“无畏、专注、执着、共赢”的企业价值观，在半导体零部件产业链的基础上继续向纵深和横向发展，为客户创造更大价值，成为半导体核心零件制造领跑者。

地址：无锡市新吴区新友北路109号

电话：0510-89101888

产 品 介 绍

应用：材料特性，硬度高、脆性材料易碎，是沉积设备的关键工艺零部件，主要用于干法刻蚀设备，起到保护Wafer边缘，且增加Wafer边缘利用率。

目前全球主要以8寸及12寸硅环为主流，对产品的表面洁净度要求非常严格，加工条件非常苛刻。目前主要以韩日美进口为主，在整个干法刻蚀零部件当中属于关键技术。

应用：硅电极是干法刻蚀设备的关键工艺零部件，其中硅电极是最具代表性核心零部件。在Φ200—Φ330圆周范围内有240~3000个直径0.4~1.0mm小孔，用于向反应腔内喷洒所需各种强腐蚀性气体和物质。由于其特殊的电气化学环境，对孔的几何尺寸表面光洁度都有特殊的要求，每个小孔均匀性≤0.02mm，对孔的截面形状及表面光洁度要求极高，同时涉及特殊表面处理工艺。

应用：石英由于其高纯度和耐化学性，是半导体工业中常用的材料，通常由高纯度石英制成，设计用于承受蚀刻过程中使用的高温和腐蚀性气体，有助于确保衬底被准确有效地蚀刻。

应用：氧化铝陶瓷具有材料结构稳定，机械强度高，硬度高，熔点高，抗腐蚀，化学稳定性优良，电阻率大，电绝缘性能好等优点，在半导体设备离子晶圆刻蚀机腔室、晶圆抛光板、抛光磨垫校正平台、真空吸盘应用广泛。

应用：第一级泵组，电镜应用过程中，需要帮助设备大气压状态转换成真空状态，通过高真空传感器进行检测；第二级泵组使局部检测样品室达到高真空状态，而真空泵则是电镜设备达到高真空的必要工具

通过FIB设备实现沉积在样品表面，常用的沉积元素有钨、铂、碳等，应用有作为切片保护层使用，或者在线路修补中用来沉积导线、提高铜制程的刻蚀质量等作用

 调整I BEAM(离子束)的束流，控制束流的大小。我司也可按需求定制特殊规格光阑

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