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研微半导体邀您共赴第11届半导体设备材料与核心部件展示会

来源: 聚展网2023-07-26 10:08:59 1178分类: 半导体资讯

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CSEAC 是我国半导体行业权威设备与核心部件展示会，已成功举办十届。十年的坚守，铸就了CSEAC的专业性、品牌影响力与资源召唤力。我们以“高水平、专业化、产业化”为办会宗旨，力争打造国内外半导体行业技术交流、经贸洽谈、市场拓展、产品推广的优质平台。

CSEAC 2023

展商风采

专业厂商，邀您参观

研微（江苏）半导体科技有限公司

展位号 A6-T330

研微（江苏）半导体科技有限公司，成立于2022年10月，是一家专业从事半导体薄膜沉积设备研发、生产、销售、服务于一体的多元化高端装备公司。公司专注于ALD及外延设备，生产具有自主知识产权并具备国际竞争力的产品。

公司以攻克半导体沉积整机设备以及核心零部件等技术为初期目标，从单项技术突破到促进上下游及行业内交流，进而推动半导体设备的稳步国产化，并最终提高中国在半导体领域的国际竞争力。

产品介绍

（高产）High-K ALD薄膜沉积设备Venus

High-K ALD薄膜沉积设备是存储和逻辑芯片生产中的重要设备之一。传统的半导体器件制造中，栅极绝缘层材料通常采用二氧化硅（SiO2）。然而，对于更先进的半导体工艺来说，SiO2已经不再适用。为了应对这一挑战，引入了高K材料作为替代方案，高K材料具有较高的介电常数（K值），可以在相对较薄的绝缘层中实现相同的电容效果。这使得高K材料在维持较低的漏电流和更好的绝缘性能的同时，实现了晶体管尺寸的进一步缩小。

研微的High-K ALD设备用于制备高K薄膜，并具有多项技术创新，以满足当前主流存储和逻辑芯片对栅极绝缘材料的需求。

该设备的主要技术和性能特点包括：

1. 出色的反应腔温控系统，确保高精度和稳定的沉积温度。

2. 采用业界最先进的反应源传输系统，提供高效且可靠的原料输送。

3. 具备业界领先的薄膜均匀性和低杂质水平，确保制备出高质量的薄膜。

4. 具备优秀的电学性能，满足高K材料在器件中的要求。

5. 针对整个平台进行了优化，设备具有超高的生产能力和极低的生产成本。

通过对关键部件的优化，提高了设备的可靠性和稳定性并达到国际领先水平的腔体使用寿命。